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| Herstellungsprozesse für siliziumbasierte Mikrosysteme | Herstellungsprozesse für siliziumbasierte Mikrosysteme | Übung | ×1Mo 17:30-18:15WSH S1 (4243|104)×2Do 18:30-19:15Doppelraum 101, 102 (4253|101)×11Fr 10:30-11:15Doppelraum 101, 102 (4253|101) | |
| Herstellungsprozesse für siliziumbasierte Mikrosysteme | Vorlesung | ×1Mo 15:45-17:15WSH S1 (4243|104)×2Do 16:30-18:00Doppelraum 101, 102 (4253|101)×11Fr 08:30-10:00Doppelraum 101, 102 (4253|101) | ||
| Fundamentals of Organic Electronics and Optoelectronics - Technology and Applications | Fundamentals of Organic Electronics and Optoelectronics: Technology and Applications | Fach-/Modulprüfung | 5 | |
| Compound Semiconductors: Electronic, Photonic and Application | Compound Semiconductors: Electronics, Photonics and Application (ehemals III-V-Halbleiter 2) | Vorlesung | ×14Mo 08:30-10:00WSH S1 (4243|104) | |
| Compound Semiconductors: Electronics, Photonics and Application (ehemals III-V-Halbleiter 2) | Übung | ×13Mo 10:00-10:45WSH S1 (4243|104) | ||
| Oxidische Dünnschichten für die Informationstechnik: Herstellungs- und Charakterisierungsverfahren | Oxidische Dünnschichten für die Informationstechnik: Herstellungsverfahren und Charakterisierungsmethoden | Fach-/Modulprüfung | 5 | |
| Oxidische Dünnschichten für die Informationstechnik: Herstellungsverfahren und Charakterisierungsmethoden | Übung | |||
| Oxidische Dünnschichten für die Informationstechnik: Herstellungsverfahren und Charakterisierungsmethoden | Vorlesung | |||
| GaN: Material, Technology and Devices | GaN: Material, Technology and Devices | Vorlesung/Übung | ×13Di 10:00-11:30Extern | |
| GaN: Material, Technologie und Bauelemente | Fach-/Modulprüfung | 5 |