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| Herstellungsprozesse für siliziumbasierte Mikrosysteme | Herstellungsprozesse für siliziumbasierte Mikrosysteme | Übung | ×14Fr 12:30-13:15WSH S1 (4243|104) | |
| Herstellungsprozesse für siliziumbasierte Mikrosysteme | Vorlesung | ×14Fr 10:30-12:00WSH S1 (4243|104) | ||
| Compound Semiconductors: Electronic, Photonic and Application | Compound Semiconductors: Electronics, Photonics and Application (ehemals III-V-Halbleiter 2) | Vorlesung | ×14Mo 08:30-10:00WSH S1 (4243|104) | |
| Compound Semiconductors: Electronics, Photonics and Application (ehemals III-V-Halbleiter 2) | Übung | ×14Mo 10:00-10:45WSH S1 (4243|104) | ||
| Einsatz oxidischer Dünnschichten in der Informationstechnik: Materialien und Eigenschaften | Oxidische Dünnschichten für die Informationstechnik: Materialien und Eigenschaften | Fach-/Modulprüfung | 5 | |
| Oxidische Dünnschichten für die Informationstechnik: Herstellungs- und Charakterisierungsverfahren | Oxidische Dünnschichten für die Informationstechnik: Herstellungsverfahren und Charakterisierungsmethoden | Übung | ×12Do 15:30-16:00WSH S1 (4243|104) | |
| Oxidische Dünnschichten für die Informationstechnik: Herstellungsverfahren und Charakterisierungsmethoden | Vorlesung | ×12Do 14:00-15:30WSH S1 (4243|104) | ||
| GaN: Material, Technology and Devices | GaN: Material, Technology and Devices | Vorlesung/Übung | ×13Di 10:00-12:15WSH S2 (4243|102) |